Rapidus欲在两大半导体工厂部署10台EUV光刻机，量产2纳米芯片指日可待？

近期，据Tom"s Hardware外媒报道，日本半导体行业新星Rapidus的首席执行官小池淳义在公开访谈中透露，该公司计划在北海道千岁市的创新集成制造工厂（IIM-1）及规划中的IIM-2工厂内，部署总共10台极紫外（EUV）光刻机。然而，具体的安装时间表尚未对外公布。

回顾去年12月的报道，Rapidus曾提及将引入TWINSCAN NXE:3800E系统的光刻机，但对于是否会采用其他型号的光刻设备，目前仍不明确。

在技术创新与合作的道路上，Rapidus亦展现出积极姿态。公司已与美国芯片巨头博通携手，目标直指2纳米尖端芯片的量产，并计划在今年6月向博通提供试产样品。这一举措标志着Rapidus在高端芯片制造领域的雄心壮志。

除了与博通的合作，Rapidus还赢得了Preferred Networks的信任，后者已委托其代工2纳米芯片，用于生成式AI处理。Rapidus正积极与30至40家企业洽谈代工业务，意图通过承接定制化的少量多品种半导体订单，与台积电等传统大规模生产模式形成差异化竞争，开辟半导体制造的新路径。

Rapidus的这一系列举措，不仅彰显了其在半导体制造领域的深厚实力，也预示着未来半导体代工市场或将迎来新的竞争格局。随着技术的不断进步和市场的多元化需求，Rapidus有望成为推动半导体行业创新发展的重要力量。